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Eksma 可變衰減器990-0073

簡要描述:Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:885

產品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 可變衰減器990-0073

適用于飛秒和ND:YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073

Eksma 可變衰減器990-0073

可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

產品介紹

?將激光束分為兩束手動調節的強度比,以68°角分開

?大動態范圍

?透射光束偏移?1.4毫米

?高光學損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階(光學接觸)。直徑為40 mm的半波片(用于飛秒脈沖),零階空間隔的半波片(用于高功率應用)或多階半波片(用于Nd:YAG激光脈沖)容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中,放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數??梢栽诤軐挼膭討B范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-13運動安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調整為±4.5°,并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在92-98 mm的范圍內調節??梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?,以將標準桿和桿架更改為更高的高度。

產品型號

適用于Nd:YAG激光應用

代碼

波長

激光損傷閾值

990-0073-355

355 nm

5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-532

532 nm

5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-1064

1064 nm

5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒激光脈沖

代碼

波長

激光損傷閾值

990-0073-266

266 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343

343 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400

400 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515

515 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800

800 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

適用于高功率飛秒應用

代碼

波長

激光損傷閾值

990-0073-266H

266 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343H

343 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400H

400 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515H

515 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800H

800 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm


通光孔徑

36 mm

損害閾值


對于Nd:YAG應用

>5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical

飛秒應用

>10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

用于大功率應用

>100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

偏振比

>1:200

透射光束偏移

~1.4 mm

重量

0.6 kg

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。


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