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詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 飛秒和ND：YAG激光脈沖電動可變衰減器990-0072M
Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
具有?22 mm透明孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易于設置。波片的電動旋轉允許連續改變輸出光束的強度比。
產品介紹
?將激光束分為兩束手動調節的強度比，以68°角分開
?大動態范圍
?透射光束偏移?1mm
?高光學損傷閾值
Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4mm（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
可以通過旋轉波片來連續改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數?？梢栽诤軐挼膭討B范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。
840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。
產品型號
飛秒激光脈沖
型號 | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
大功率激光應用
型號 | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
旋轉分辨率：全步模式 在1/8步進模式下 |
|
較高轉速 | 50 deg/s |
適用于Nd：YAG激光應用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 | >5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 |
時間色散 | 對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖，t<4 fs |
偏振對比 | >1:200 |
推薦設置
控制器 | 980-1045 |
電源 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結尾為“ + CP"。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。
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