反射鏡應用于光纖激光系統內作為尾鏡或折返鏡,以及外光路系統中的轉折鏡,其基材通常為鉬、 融石英、無氧銅、單晶硅等;
無氧銅材料由于其高熱導性通常應用于高功率激光系統中;由于單晶硅是高性價比的基底材料,所以常用的的基材是“硅”。銅材料由于其高熱導性通常應用于高功率激光系統中。鉬相當耐磨的表面適用于很多特定需要的物理環境,鉬反射鏡一般是不鍍膜的。
反射鏡、高反射鏡、前表面反射鏡在光學上的應用都是一樣的。
通過真空鍍膜鍍一層金屬銀(或鋁)薄膜,使入射光反射的光學元件。采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;且是第一反射面反射,反射圖像不失真,無重影,為前表面反射作用。如采用普通反射鏡為第二反射面,不僅反射率低,對波長無選擇性,而且易產生重影。而采用鍍膜膜面反射鏡,得到的圖像不僅亮度高,而且精確無偏差,畫質更清晰,色彩更逼真。前表面反射鏡廣泛為光學高保真掃描反射成像之作用。
激光反射鏡是激光光纖傳輸系統中重要的元件,在CO2激光光路中,反射鏡可以有兩方面的應用,在激光管內反射鏡可作為尾鏡,該鏡片基底帶有一定的曲率,起到震蕩激光的作用;在某些激光設計中,激光反射鏡能在激光管內改變光線,起到減少激光管長度的作用;在激光管外,反射鏡和聚焦鏡配合,構成一個完整的光路,使得激光機器的設計更加節省空間,并盡可能減少激光損耗,大程度保留激光工作功率。
反射鏡一般采用鉬和硅作為基底,鉬反射鏡能在條件苛刻的環境中工作,并且使用壽命長,承受功率高,表面不需鍍膜,耐擦拭,缺點是反射率低。硅是常用的鍍膜反射鏡基材,擁有良好的光學熱力性。